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公司檔案
公司名稱:
公司類型:
企業(yè)單位 (制造商)
所 在 地:
青島市
公司規(guī)模:
1-49人
注冊資本:
300萬人民幣
注冊年份:
2016
資料認(rèn)證:
經(jīng)營模式:
制造商
經(jīng)營范圍:
氧化擴(kuò)散爐應(yīng)用于半導(dǎo)體器件、分立器件、光電子器件、電力電子器件、太陽能電池及大規(guī)模集成電路制造等領(lǐng)域?qū)M(jìn)行擴(kuò)散、氧化、退火、合金及燒結(jié)等工藝,可用于2-8英寸工藝尺寸.LPCVD是用加熱的方式在低壓條件下使氣態(tài)化合物在基片表面反應(yīng)并淀積形成穩(wěn)定固體薄膜。由于工作壓力低.氣體分子的平均自由程和擴(kuò)散系數(shù)大,故可采用密集裝片方式來提高生產(chǎn)率。 真空擴(kuò)散爐應(yīng)用于半導(dǎo)體器件、分立器件、光電子器件、電力電子器件、大規(guī)模集成電路制造等領(lǐng)域?qū)M(jìn)行擴(kuò)散、氧化、退火、合金及燒結(jié)等工藝,可用于2-8英寸工藝尺寸。
銷售的產(chǎn)品:
氧化擴(kuò)散爐,真空擴(kuò)散爐,氫氣燒結(jié)爐,氫氧點火爐,半導(dǎo)體用真空燒結(jié)爐
采購的產(chǎn)品:
氧化擴(kuò)散爐,真空擴(kuò)散爐,氫氣燒結(jié)爐,氫氧點火爐,半導(dǎo)體用真空燒結(jié)爐
主營行業(yè):
其它加工機(jī)械
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